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市场 > Lithography > NIKON > FX-21S

FX-21S

概述

Resolution: ≦ 2.4 µm (isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1:1 Exposure field: 400 × 700 mm Overlay: ≦ 0.6 µm (3σ) Maximum plate size: 800 × 950 mm

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服务

检验、保险、评估、物流

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