说明
无说明配置
无配置OEM 型号描述
Anelva: ILD-4100 three-chamber cluster tool. Helicon wave source licensed from Plasma and Materials Technology (MORI source), can be configured with Helicon, RIE, and microwave downstream asher chambers, metal etch, poly etch processes.文件
无文件
类别
Dry / Plasma Etch
上次验证： 4 天前
物品主要详细信息
状况：
Used
运行状况:
未知
产品编号：
137690
晶圆尺寸：
6"/150mm
年份：
未知
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
CANON / ANELVA
ILD-4100
类别
Dry / Plasma Etch
上次验证： 4 天前
物品主要详细信息
状况：
Used
运行状况:
未知
产品编号：
137690
晶圆尺寸：
6"/150mm
年份：
未知
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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无说明配置
无配置OEM 型号描述
Anelva: ILD-4100 three-chamber cluster tool. Helicon wave source licensed from Plasma and Materials Technology (MORI source), can be configured with Helicon, RIE, and microwave downstream asher chambers, metal etch, poly etch processes.文件
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