说明
无说明配置
200mm max size (etch area is 100mm via quartz clamp) Physical etch assist via Ar Chemical etch via F or Cl Modification of etching environment toward reducing (H2) or oxidizing (O2) Cryo stage for deep RIE etching (Bosch)OEM 型号描述
Etching System文件
无文件
类别
Dry / Plasma Etch
上次验证： 13 天前
物品主要详细信息
状况：
Used
运行状况:
未知
产品编号：
138636
晶圆尺寸：
未知
年份：
2012
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
OXFORD
100 180 ICP
类别
Dry / Plasma Etch
上次验证： 13 天前
物品主要详细信息
状况：
Used
运行状况:
未知
产品编号：
138636
晶圆尺寸：
未知
年份：
2012
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Available
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Available
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200mm max size (etch area is 100mm via quartz clamp) Physical etch assist via Ar Chemical etch via F or Cl Modification of etching environment toward reducing (H2) or oxidizing (O2) Cryo stage for deep RIE etching (Bosch)OEM 型号描述
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