说明
Cobra 300 ICP+PECVD配置
Cl₂ (Chlorine) N₂ (Nitrogen) CHF₃ (Trifluoromethane) N₂O (Nitrous Oxide) NH₃ (Ammonia) CF₄ (Carbon Tetrafluoride) SF₆ (Sulfur Hexafluoride) BCl₃ (Boron Trichloride) SiCl₄ (Silicon Tetrachloride) SiH₄/N₂ (Silane in Nitrogen, 5% mixture) Ar (Argon) H₂ (Hydrogen)OEM 型号描述
未提供文件
无文件
类别
Dry / Plasma Etch
上次验证： 16 天前
物品主要详细信息
状况：
Used
运行状况:
未知
产品编号：
137003
晶圆尺寸：
未知
年份：
2021
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
OXFORD
PLASMAPRO 100 COBRA
类别
Dry / Plasma Etch
上次验证： 16 天前
物品主要详细信息
状况：
Used
运行状况:
未知
产品编号：
137003
晶圆尺寸：
未知
年份：
2021
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Available
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说明
Cobra 300 ICP+PECVD配置
Cl₂ (Chlorine) N₂ (Nitrogen) CHF₃ (Trifluoromethane) N₂O (Nitrous Oxide) NH₃ (Ammonia) CF₄ (Carbon Tetrafluoride) SF₆ (Sulfur Hexafluoride) BCl₃ (Boron Trichloride) SiCl₄ (Silicon Tetrachloride) SiH₄/N₂ (Silane in Nitrogen, 5% mixture) Ar (Argon) H₂ (Hydrogen)OEM 型号描述
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